水處理EDI超純水設(shè)備通常包括離子交換膜、電極模塊和電離劑回收系統(tǒng)。在這個(gè)過(guò)程中，通過(guò)應(yīng)用直流電場(chǎng)，正負(fù)電荷的離子會(huì)遷移穿過(guò)離子交換膜，從而實(shí)現(xiàn)了去除雜質(zhì)的目的。同時(shí)，電離劑回收系統(tǒng)可循環(huán)利用生成的溶液，減少?gòu)U液排放。

更新時(shí)間：2024-08-07

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水處理EDI超純水設(shè)備是一種通過(guò)電化學(xué)和離子交換技術(shù)來(lái)去除水中雜質(zhì)的裝置。它通常由兩個(gè)相互交替排列的電極模塊組成，每個(gè)模塊內(nèi)部有離子交換膜和電極。

工作機(jī)理如下：

1. 預(yù)處理：EDI設(shè)備通常與其他前處理設(shè)備（如反滲透裝置）結(jié)合使用，以去除大部分溶解固體、懸浮物和有機(jī)物質(zhì)。

2. 離子交換：EDI設(shè)備中的離子交換膜具有特定的選擇性，它們?cè)试S特定類型的離子穿過(guò)而阻止其他離子通過(guò)。當(dāng)水流通過(guò)EDI設(shè)備時(shí)，存在正負(fù)兩種電離子。

3. 電解：在EDI設(shè)備中，一個(gè)外部直流電場(chǎng)被應(yīng)用于電極。正極吸引陰離子（如氫氧根離子OH-），負(fù)極則吸引陽(yáng)離子（如氫離子H+）。這將導(dǎo)致水中的正負(fù)離子向?qū)?yīng)的電極移動(dòng)。

4. 離子再生：當(dāng)正負(fù)離子通過(guò)離子交換膜移動(dòng)到相應(yīng)的電極上時(shí)，它們與離子交換膜上的離子交換樹脂發(fā)生離子交換反應(yīng)。這導(dǎo)致固定在離子交換膜上的離子被去除，同時(shí)釋放出更多純凈水。

5. 淋洗：淋洗是EDI設(shè)備的一個(gè)重要步驟，它有助于清潔電極表面并去除吸附在電極上的離子。這樣可以保持設(shè)備的性能和穩(wěn)定性。

通過(guò)以上工作機(jī)理，EDI超純水設(shè)備能夠?qū)崿F(xiàn)高效、連續(xù)和可再生的水處理，產(chǎn)生高質(zhì)量的超純水供應(yīng)。

水處理EDI超純水設(shè)備常見的故障解決：

1、當(dāng)注入的次氯酸鈉量不足而使給水中的游離氯不能測(cè)出時(shí)，在超純水設(shè)備的膜組件上會(huì)有黏泥發(fā)生，超純水設(shè)備的壓差將加大。但對(duì)于復(fù)合膜和聚酰胺膜來(lái)說(shuō)，須嚴(yán)格控制進(jìn)入膜組件的游離氯量，超過(guò)規(guī)定值將導(dǎo)致膜的氧化分解。

　　2、若把SDI5值超標(biāo)的水供給超純水設(shè)備作為給水，在膜組件的表面將附著污垢，這樣須通過(guò)清洗來(lái)去除污垢。

　　3、過(guò)量的給水流量將使膜組件提前惡化，因此給水流量不能超過(guò)設(shè)計(jì)標(biāo)準(zhǔn)值，此外濃水的流量因盡量避免小于設(shè)計(jì)標(biāo)準(zhǔn)值，在濃水流量過(guò)小的條件下運(yùn)轉(zhuǎn)，會(huì)使超純水設(shè)備的壓力容器內(nèi)發(fā)生不均勻的流動(dòng)及由于過(guò)分濃縮而在膜組件上析出污垢。

　　4、超純水設(shè)備的高壓泵即使有較短的時(shí)間中斷運(yùn)轉(zhuǎn)都可能使裝置發(fā)生故障。

　　5、超純水設(shè)備入口壓力要保持有適當(dāng)?shù)脑６取?/div>

　　6、為了防止膜結(jié)垢，超純水設(shè)備啟停時(shí)應(yīng)用低壓給水置換超純水設(shè)備內(nèi)的水。

　　7、需經(jīng)常注意過(guò)濾器的壓差。出現(xiàn)壓差急劇上升的原因主要是過(guò)濾器渾濁度的泄漏。相反，出現(xiàn)壓差急劇下降的原因是過(guò)濾器元件的破損，以及過(guò)濾器元件緊固螺絲松動(dòng)等。

　　8、當(dāng)超純水設(shè)備入口和出口的壓差都超過(guò)標(biāo)準(zhǔn)時(shí)，說(shuō)明膜面已受污染或者是給水流量在設(shè)計(jì)值以上。如經(jīng)流量調(diào)整尚不能解決壓差問(wèn)題，則應(yīng)對(duì)膜進(jìn)行清洗。

　　9、在夏季，當(dāng)給水溫度高時(shí)，采出水的流量大，有時(shí)須降低操作壓力。這樣做將導(dǎo)致采出水的質(zhì)量下降。為了防止這種情況，可以減少膜組件的數(shù)量，同時(shí)保持較高的工作壓力。

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